Halbleiterfertigung: Luftfilter für höchste Luftreinheit

Halbleiter

Verbessern Sie Ihre Prozesserträge mit Komplettlösungen für die moderne Halbleiterfertigung.

In der Halbleiterfertigung können Mikroverunreinigungen erhebliche Probleme verursachen. Camfil bietet eine breite Palette an Lösungen, darunter Partikelvorfilter, HEPA- und ULPA-Filter sowie AMC-Kontrolllösungen, mit denen sich die Partikel- und Molekülverunreinigungen in Reinräumen auf Werte der ISO-Klasse 1 für Partikel und im sub-ppb-Bereich für luftgetragene Molekülverunreinigungen reduzieren lassen.

 

Filter für luftgetragene molekulare Verunreinigungen und deren Kontrolle sind wichtiger denn je für die Reinraumfiltration

Molekulare Verunreinigungen, die durch die Luft übertragen werden, stellen eine besondere Herausforderung für die Herstellung von Halbleitern in kleinen Dimensionen dar. Unerwünschte chemische Reaktionen von Säuren, Basen, organischen Substanzen, feuerfesten Materialien und Dotierstoffen können Wasseroberflächen und das Aussehen von Prozessgeräten beeinflussen, was zu Defekten während der Chipherstellung führen und die Effizienz von Geräten und Werkzeugen verringern kann.

Das Problem der durch die Luft übertragenen molekularen Verunreinigungen gewinnt in Reinraumfertigungsprozessen zunehmend an Bedeutung. Mit immer anspruchsvolleren Spezifikationen und immer kleineren Geräten steht die Prozesssteuerung unter enormem Druck. Halbleiterscheiben können einen ganzen Monat in einer Fabrik verbringen und unzählige Prozesse durchlaufen, bevor sie zu einem Endprodukt verarbeitet werden. Eine kleine Verunreinigung in diesem Prozess kann erhebliche Auswirkungen auf den Gesamtertrag der Fabrik haben.

Eine weitere Herausforderung ist die Standardisierung größerer Wafer-Dimensionen, die die Kosten für einzelne Wafer in die Höhe treibt und den Bedarf an Nanopartikeln und Schutz vor luftübertragenen molekularen Verunreinigungen auf Werkzeugebene erhöht. Darüber hinaus wirken sich die steigenden Kosten für defektfreie Masken in der EUV- und Multi-Pattern-DUV-Lithografie auf die Verunreinigungskontrollsysteme für Anlagen sowie auf Mini-Umgebungen wie Testausrüstungen und Maskenanlagen aus.

 

Schützen Sie Ihre Prozessanlagen und Wafer vor Nanopartikeln und molekularen Verunreinigungen, die durch die Luft übertragen werden

Die Lösungen von Camfil bieten in der Praxis und im Labor bewährten Schutz in Halbleiterfertigungsumgebungen, einschließlich Lithografie, Ätzen, Diffusion, Metallisierung, Dünnfilm, Ionenimplantation, Testwerkzeugen und Lagerbereichen für Fotomasken oder Halbleiterwafer.

  • Luftfilter für Prozesswerkzeuge
  • Reinraum-Luftfilter
  • Scanner-Vorfiltersysteme

 

Energieeffiziente Lösungen mit geringer Ausgasung für RLT-Anlagen

Die Partikelvorfilter von Camfil gewährleisten den geringsten Energieverbrauch in raumlufttechnischen Anlagen bei gleichzeitigem Schutz der HEPA-Filter vor Verstopfung und ohne Freisetzung von Bor. Die HEPA- und ULPA-Filter von Camfil sind so konzipiert, dass sie so wenig organische Verunreinigungen wie möglich freisetzen (geringe Ausgasung), und wurden im Laufe vieler Jahre hinsichtlich der Klebstoffe und chemischen Eigenschaften der Medien weiterentwickelt. Absaugsysteme für das Waferschneiden und Gaswäscher für allgemeine Abgasrückgewinnungssysteme schützen die Umwelt vor Prozessverunreinigungen.

  • Borfreie synthetische Vorfilter
  • Vorfilter mit hohere Energieeffizient
  • HEPA- und ULPA-Filter mit geringer Ausgasung
  • Absauganlagen und Molekularfilter für eine saubere Abluft

 

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