Semiconduttori

Nelle fabbriche di semiconduttori la microcontaminazione può generare problematiche molto importanti. Camfil offre un’estesa gamma di soluzioni – pre-filtri particellari, filtra Hepa, filtra ULPA, e soluzioni per il controllo della Airborne Molecular Contamination (AMC) – per ridurre ogni concentrazione sia particellare che molecolare fino alla Classe di pulizia ISO 1 ed a livelli sub-ppb per quanto concerne la AMC.

Filtri AMC e controlli sempre più accurati per le soluzioni di filtrazione della clean room.

La contaminazione molecolare aerotrasportata, e spesso “aerogenerata “ (AMC) rappresenta una sfida specifica per la produzione di semiconduttori di piccolo dimensioni . Le reazioni chimiche indesiderate di composti acidi, basi, composti organici, “refractories (ad esempio organifosfati)” e dopanti (ad esempio il Boro) possono impattare direttamente sulla superficie dei wafer di Silicio e sulle ottiche delle attrezzature di processo generando difetti durante I vari step di produzione dei chip e riducendo l’efficienza delle attrezzature e nel peggiore dei casi l’intera resa di processo .

La AMC è ormai diventato uno degli aspetti più critici dei processi più avanzati di semiconduttori. Quando le specifiche di processo diventano  più critiche e le dimensioni dei chip si riducono, il controllo di processo si trova a fronteggiare sfide sempre più difficili. Un wafer per la produzione di semiconduttori può rimanere in reparto anche per più di un mese, passando attraverso centinaia di step di processo prima di essere integrato in un prodotto finale. La più piccolo contaminazione che impatta in questa lunga catena di produzione può quindi generare serie conseguenze per la resa globale della fabbrica.

Un’altra sfida è la tendenza ad aumentare le dimensioni dei wafer contestualmente alla riduzione dei device prodotti in linea, questo comporta l’aumento dei costi dei wafer e di conseguenza la maggior attenzione verso la filtrazione di nanoparticelle e la protezione delle attrezzature di processo dalla contaminazione molecolare. In aggiunta , il crescente costo per le maschere utilizzate nei processi di litografia stanno alzando l’attenzione verso sistemi di controllo della contaminazione non solo per gli impianti di trattamento aria  convenzionali ma anche  su sistemi di mini-environment, attrezzature di ispezione, testing e di  stoccaggio delle maschere litografiche (Mask-Stocker).

Proteggi le tue attrezzature di processo e I wafer di produzione dalle nanoparticelle e dalla contaminazione molecolare.

Le soluzioni Camfil forniscono una comprovata efficacia per la produzione dei semiconduttori. migliorando  la qualità dell’aria in litografia, area attacchi, diffusione, metallizzazione, deposizione, impiantazione, metrologia e, non meno importante le zone di stoccaggio dei wafers e delle maschere litografiche.

• Filtri aria per le attrezzature di processo
• Filtri per cleanrrom
• Sistemi di pre-filtrazione per attrezzature Scanner

Efficenza energetica e soluzioni a basso outgassing per gli impianti al servizio della clean room

Il range Camfil di pre-filtri particellari garantisce il minimo consumo energetico nelle Unità di Trattamento Aria  e nel contempo proteggono I filtri HEPA da eventuale intasamento e da outgassing indesiderato di Boro.  I filtra HEPA e ULPA di Camfil sono studiati e progettati per garantire il minor rilascio possible di composti contaminanti organici (Filtri LOW Outgassing) grazie ad anni di studio e sviluppo di adesivi e media filtrante aventi le opportune caratteristiche chimiche desiderate. I sistemi di abbattimento polveri dei processi di taglio del wafer di Silicio così come I sistemi di scrubber molecolare per il back up dell’impianto di espulsione generale, proteggono invece l’ambiente dai contaminanti generate dal processo di produzione

• Filtri sintetici boron-free
• Filtri a bassissimo consumo energetico
• Low outgassing filtra HEPA e ULPA
• Depolveratori industriali (Dust collectors) e gas scrubber per una ottimale qualità dell’aria in espulsione