Semicondutor

Em fábricas de semicondutores, a micro-contaminação pode representar problemas enormes. A Camfil oferece uma extensa gama de soluções - pré-filtros de partículas, filtros HEPA e ULPA e soluções de controle AMC - para reduzir qualquer particulado de sala limpa e concentrações moleculares para níveis ISO Classe 1 para partículas e sub-ppb para AMC.

Filtros AMC e controle mais críticos do que nunca na filtragem em salas limpas

A contaminação molecular aérea (AMC) representa um desafio especial para a fabricação de semicondutores em pequenas dimensões.As reações químicas indesejadas de ácidos, bases, orgânicos, refratários e dopantes podem afetar superfícies de wafer e óptica de equipamentos de processo para criar defeitos durante a produção de chips e reduzir a eficiência de equipamentos e ferramentas. 

O AMC está se tornando cada vez mais importante nos processos críticos de fabricação de salas limpas. À medida que as especificações se tornam mais exigentes e os tamanhos dos dispositivos diminuem, o controle do processo enfrenta uma pressão tremenda. Wafers podem passar um mês inteiro dentro de uma fábrica, passando por centenas de processos antes de serem enviados como produto final. Qualquer pequeno impacto de contaminação nesta cadeia de processo pode ter sérias consequências para o rendimento geral da fábrica.

Outro desafio está na generalização de dimensões maiores de wafer, o que aumenta o custo de wafers individuais e aumenta a necessidade de nanopartículas e proteção AMC no nível da ferramenta. Além disso, os custos crescentes das máscaras sem defeitos usadas na litografia EUV e DUV de padrões múltiplos estão colocando pressão nos sistemas de controle de contaminação das instalações, bem como em mini-ambientes, como equipamentos de inspeção e armazenadores de máscaras.

Proteja seu equipamento de processo e wafers contra nanopartículas e contaminantes moleculares transportados pelo ar

As soluções da Camfil fornecem proteção comprovada em campo e em laboratório em ambientes de fabricação de semicondutores, incluindo litografia, corrosão, difusão, metalização, filmes finos, implantação de íons, ferramentas de inspeção e áreas de armazenamento de retículo ou wafer.

• Filtros de ar para ferramentas de processo
  
• Filtros de ar da sala limpa
  
• Sistemas de pré-filtragem do scanner

Soluções energeticamente eficientes e de baixa emissão de gás para sistemas de instalações

A gama de pré-filtros de partículas da Camfil garante o menor consumo de energia em unidades de tratamento de reposição de ar enquanto protege os filtros HEPA de entupimento e sem liberação de boro. Os filtros Camfil HEPA e ULPA são projetados para liberar as menores quantidades possíveis de contaminantes orgânicos (chamados de baixa emissão de gás), após anos de desenvolvimento de adesivos e propriedades químicas de mídia. Os sistemas de exaustão para corte de wafer, bem como depuradores de gás para sistemas de reserva de exaustão geral, protegem o meio ambiente da contaminação do processo.

• Pré-filtros sintéticos sem boro
• Pré-filtros de energia muito baixa
• Filtros HEPA e ULPA de baixa emissão de gás
• Coletores de poeira e purificadores de gás para um ar de exaustão mais limpo