Améliorez le rendement de vos process grâce à des solutions complètes pour la fabrication de pointe de semi-conducteurs.
Dans les usines de fabrication de semi-conducteurs, la microcontamination peut poser d’énormes problèmes. Camfil propose une vaste gamme de solutions (des préfiltres de particules, des filtres HEPA et ULPA et des solutions de contrôle AMC) visant à ramener toutes les concentrations particulaires et moléculaires dans les salles propres aux niveaux définis dans la norme ISO classe 1 pour les particules et en dessous des ppb pour l’AMC.
La contamination moléculaire aérienne (AMC) constitue un défi particulier pour la fabrication de semi-conducteurs dans de petites dimensions. Les réactions chimiques indésirables des acides, des bases, des substances organiques, des matériaux réfractaires et des dopants peuvent affecter les surfaces de tranches et l'optique des équipements de procédé, et ainsi engendrer des défauts lors de la production de puces et une réduction de l’efficacité de l'équipement et des outils.
L’AMC devient de plus en plus importante dans les procédés de fabrication essentiels des salles propres. Avec les spécifications qui deviennent de plus en plus exigeantes et les dimensions des dispositifs qui rétrécissent, le contrôle des procédés fait face à une pression énorme. Les wafers peuvent passer un mois entier dans une usine et subir des centaines de procédés avant d'être intégrés à un produit final. Tout impact minime de contamination dans cette chaîne de traitement peut avoir des conséquences graves sur le rendement global de l’usine.
Un autre défi réside dans la généralisation de dimensions des wafers plus grands, ce qui augmente le coût des wafers individuels et accroît le besoin de protection des nanoparticules et de l’AMC au niveau de l'outil. De plus, les coûts croissants des masques sans défaut utilisés dans les EUV et la lithographie DUV à motifs multiples exercent des pressions sur les systèmes de contrôle de la contamination des installations ainsi que des mini-environnements tels que le matériel de contrôle et les stockeurs de masques.
Les solutions proposées par Camfil offrent une protection éprouvée sur le terrain et en laboratoire dans les environnements de fabrication de semi-conducteurs, notamment la lithographie, la gravure, la diffusion, la métallisation, les films minces, l’implantation d’ions, les outils d’inspection et les zones de stockage de réticules ou de wafers.
La gamme de préfiltres à particules Camfil garantit une consommation d'énergie minimale dans les unités de traitement d'air d'appoint, tout en protégeant les filtres HEPA de toute obstruction et sans libération de bore. Les filtres HEPA et ULPA Camfil sont conçus pour libérer des contaminants organiques au niveau le plus bas possible (appelés à faible dégazage), après des années de développement des propriétés des adhésifs et des produits chimiques de média. Les systèmes d'échappement pour la découpe de wafers et les épurateurs de gaz pour les systèmes d’extraction de secours protègent l'environnement de la contamination des procédés.
Protégez les personnes et l'environnement des concentrations dangereuses ou élevées de particules et de molécules émises lors des process industriels, respectez les normes de sécurité locales et réduisez les coûts d'exploitation du système de filtration de votre évacuation d'air.
Les plafonds de salles propres sont conçus pour offrir une protection maximale contre les molécules (à l'état gazeux), les nanoparticules et les particules aux équipements, procédés et produits manufacturés de salles propres. Les plafonds utilisent des flux laminaires ou turbulents en fonction de la conception de la salle propre.
Les centrales de traitement d'air sont utilisées pour fournir un air propre et tempéré aux installations, en complément ou en remplacement de plafonds ou d'unités de ventilation et filtration (FFU). L'air recyclé doit être filtré pour protéger les personnes, les process et les produits.
Les process de microélectronique en salles propres ou en mini environnement nécessitent une protection contre les particules et polluants moléculaires gazeux. Ces process incluent la lithographie, les coucheuses, les développeuses, la gravure, la diffusion, la métallisation, les pellicules minces, l'implantation ionique, les outils d'inspection et les stockeurs de réticule.
Les unités de traitement d'air fournissant de l'air extérieur conditionné sont essentielles aux installations pour créer une surpression et compenser l'extraction d'air. L'air neuf nécessite une filtration efficace pour protéger gaines, personnes, process et produits.
CamCarb XG conçu pour réduire les coûts d'énergie et de maintenance dans les applications de contrôle de la contamination moléculaire
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