Verbessern Sie Ihre Prozesserträge mit kompletten Lösungen für eine fortschrittliche Halbleiterherstellung.
In der Halbleiterherstellung können Mikroverunreinigungen massive Probleme verursachen. Camfil bietet eine umfangreiche Lösungspalette, wie Partikel-Vorfilter, HEPA und ULPA Filter sowie AMC Kontrolllösungen, um jegliche Konzentrationen an Partikeln und molekularen Verunreinigungen in Reinräumen auf ISO Klasse 1 für Partikel und sub-ppb für per Luft übertragene Molekularverunreinigungen zu senken.
Per Luft übertragene Molekularverunreinigungen stellen die Halbleiterherstellung in kleinen Dimensionen vor eine besondere Herausforderung. Die unerwünschten chemischen Reaktionen von Säuren, Basen, organischen Stoffen, Feuerfestmaterialien und Dotierstoffen können Wasseroberflächen und die Optik von Prozessausrüstung beeinflussen, wodurch während der Chipherstellung Defekte auftreten und die Ausrüstungs- und Werkzeugeffizienz gesenkt werden können.
Die Problematik der per Luft übertragenen Molekularverunreinigungen wird in Reinraum-Herstellungsprozessen immer wichtiger. Mit immer anspruchsvolleren Spezifikationen und geringeren Gerätegrößen sieht sich die Prozesskontrolle einem enormen Druck ausgesetzt. Halbleiterscheiben können sich einen ganzen Monat in einer Fabrik befinden und durchlaufen unzählige Prozesse, bevor sie in einem Endprodukt verarbeitet werden. Eine kleine Verunreinigung in diesem Prozess kann sich erheblich auf die Gesamterträge der Fabrik auswirken.
Eine andere Herausforderung ist die Vereinheitlichung von größeren Halbleiterscheibendimensionen, die die Kosten individueller Halbleiterscheiben in die Höhe treibt und den Bedarf an Nanopartikeln und für einen Schutz vor per Luft übertragenen Molekularverunreinigungen auf Werkzeugebene steigen lässt. Zusätzlich wirken sich die steigenden Kosten für defektfreie Masken in der EUV und Multi-Pattern-DUV Lithographie auf die Kontrollsysteme für Verunreinigungen für Einrichtungen sowie auf Miniumgebungen wie Prüfausrüstungen und Maskenanlagen aus.
Die Lösungen von Camfil bieten einen im Feldeinsatz und im Labor bewährten Schutz in Umgebungen der Halbleiterherstellung, einschließlich Lithographie, Ätzen, Diffusion, Metallisierung, Dünnschichten, Ionenimplantation, Prüfwerkzeugen und Lagerbereichen von Fotomasken oder Halbleiterscheiben.
Die Partikel-Vorfilterreihe von Camfil gewährleistet den geringsten Energieverbrauch bei der Einrichtung von Lüftungsanlagen bei gleichzeitigem Schutz der HEPA Filter vor Verstopfung und ohne Freisetzung von Bor. Die HEPA und ULPA Filter von Camfil wurden dazu entwickelt, so wenig organische Verunreinigungen freizusetzen wie möglich (die so genannte geringe Ausgasung), und durchliefen eine jahrelange Entwicklung der Klebmittel und chemischen Eigenschaften der Medien. Abgassysteme für den Zuschnitt der Halbleiterscheiben sowie die Gaswäscher für allgemeine Abgas-Backup-Systeme schützen die Umgebung vor Prozessverunreinigungen.
Schützen Sie Mensch und Umwelt vor gefährlichen oder hochkonzentrierten Partikeln und Molekülen, die bei industriellen Prozessen freigesetzt werden, halten Sie die lokalen Sicherheitsbestimmungen ein und reduzieren Sie die Betriebskosten Ihres Abluft-Filtersystems.
Mikroelektronische Prozesse in Reinräumen oder Miniumgebungen erfordern Schutz vor Partikeln und molekularen gasförmigen Schadstoffen. Zu diesen Prozessen gehören Lithographie, Beschichterentwickler, Ätzverfahren, Diffusion, Metallisierung, Dünnschichttechnik, Ionenimplantation, Inspektionswerkzeuge und die Fotomaskenlagerung.
Lüftungsanlagen, die Industrien aufbereitete Außenluft zuführen, sind sehr wichtige Teile der Einrichtungssysteme, sie erzeugen Raumüberdruck und gleichen die Abluft aus. Zuluft benötigt eine angemessene Filterung für den Schutz der Spulen und Leitungen, Personen, Prozesse und Produkte.
Umlufteinheiten werden eingesetzt, um Anlagen saubere und temperierte Luft, als Ergänzung oder anstelle von Deckensystemen und Fan-Filter-Units bereitzustellen. Umluft muss gefiltert werden, um die Menschen, Prozesse und Produkte zu schützen.
Reinraumdecken sind so gestaltet, dass sie hohen Schutz vor Molekülen (Gasphase), Nanopartikeln und Partikeln aus Reinraumausrüstungen, -prozessen und Fertigprodukten bieten. Decken nutzen laminare oder turbulente Luftströme abhängig vom Reinraum-Design.
Oft ist der Anschaffungspreis für Luftfilter oder Absauganlagen nur die Spitze des Eisbergs. Die wahren Kosten für Energie, Wartung und Entsorgung lauern unter der Oberfläche. Um eine auf lange Sicht wirtschaftliche Entscheidung zu treffen, empfiehlt sich eine gründliche Analyse der Kosten über die gesamte Lebenszeit.
Elektronik und Optik Food und Beverage Biowissenschaften und Gesundheitspflege Gewerbliche und oeffentliche Gebaeude Standards und Normen Nachhaltigkeit Produktion und maschinelle Bearbeitung
Die neue CamCarb XG Aktivkohle-Filterpatrone wurde entwickelt, um Energie- und Wartungskosten bei der Beseitigung molekularer Verunreinigungen zu reduzieren. Das patentierte konische Design sorgt für eine hohe Abscheideleistung bei geringem Druckverlust. Mit unserem Energiesparrechner ermitteln Sie Ihr persönliches Einsparpotenzial.
Elektronik und Optik Food und Beverage Gewerbliche und oeffentliche Gebaeude
Zu den Auswirkungen der Korrosion gehört eine erhebliche Verschlechterung der natürlichen und historischen Monumente. Luftverschmutzung verursacht Korrosion, und sie wird weltweit immer schlimmer. Erfahren Sie, wie Sie Ihre Ausrüstung schützen können.
Schweiz