保护关键组件
在半导体制造中,污染可能导致瑕疵、电气故障或完全失效,从而引发质量问题和产量问题。颗粒物污染已广为人知并得到控制,但对先进技术而言,其材料和工艺对空气分子污染物(AMC)更为敏感。
AMC过滤器在去除酸、碱、掺杂剂和挥发性有机化合物(VOC)等分子污染物方面发挥着关键作用,可确保逻辑芯片或存储芯片的制造安全无忧。
以下是为半导体制造选择分子过滤器时的6个重要注意事项:
Thi-Quynh
Nguyen Mazo
EMEA 产品经理,
分子过滤
选择分子过滤器时需要考虑的主要因素之一是过滤效率。AMC过滤器通常安装在设施系统中以及设备间或设备间顶部。在先进晶圆厂中,尤其是在光刻等关键区域,晶圆处理工艺的AMC浓度通常为每十亿分之一(ppb)或更低水平。高效过滤器可有效去除污染物,有效降低半导体晶圆污染和缺陷风险。
在康斐尔,我们的分子滤材和AMC过滤器效率根据 ISO 10121 标准 ,在接近实际应用条件下进行了严格测试。
半导体制造涉及各种工艺气体和化学品,每种都会带来独特的过滤挑战。滤材中的某些化学浸渍物可能会与这些物质发生反应,产生有害副产物。因此,选择与生产环境中的物质化学相容的分子过滤器至关重要。使用正确的分子滤材以保证充分的吸附率,并降低污染率。
在康斐尔,我们使用一系列不同的滤材以应对您的分子污染物。
分子过滤器的使用寿命和维护要求对运营成本和生产效率有显著影响。在选择合适的过滤器时,性能和使用寿命是关键因素。确保选择的解决方案已经过针对特定污染物的测试,并基于最低性能水平优化更换使用寿命。
康斐尔独特的MCCLD软件可精确预测分子过滤装置的使用寿命,而CLEAN AMC则可优化整体AMC控制概念和拥有成本。CLEAN AMC使您能模拟不同的过滤解决方案,以获取在洁净室系统不同部位(例如天花板上方、FFU过滤器下方或回风AHU中的平均洁净室浓度)可实现的AMC浓度信息。这些工具可根据您的生产工厂参数,定制AMC解决方案,提供优化的性能和使用寿命。
半导体制造中的洁净室环境遵循严格的清洁标准,这意味着所选的过滤器应支持满足甚至超越相关要求。确保分子过滤器符合洁净室分类和法规以及ISO 10121标准,以确保其适用性。过滤器应设计为可无缝集成至洁净室或受控环境,具备无泄漏密封、最小颗粒脱落、低AMC释气,以及与气流控制系统兼容等特性。选择符合洁净室标准的过滤器可确保维持半导体制造所需的超洁净条件。
半导体制造是充满活力的行业,其特点是技术进步迅猛,生产需求瞬息万变。在选择分子过滤器时,应考虑其可扩展性和未来适应潜力。选择可轻松扩展以满足未来洁净室需求的分子过滤器和系统。
在康斐尔,研发是我们公司的核心。通过分子过滤开发实验室,我们旨在将过滤性能和能效出众的过滤器推向市场。通过仔细考虑相关因素,半导体制造商可获得有效的AMC过滤解决方案,从而保护关键组件和工艺,并维持高生产产量。
能源成本对半导体制造影响深远。优化制造工艺,关键在于在受控环境中提供优质的空气。AMC过滤去除技术能够以节能的方式捕获分子污染物,实现显著的节省效果
在康斐尔,我们的AMC过滤器旨在减少您HVAC系统的阻力。我们的CamCarb XG与其他AMC过滤解决方案相比,能减少高达35%的能耗。 了解更多。