为先进半导体制造提供全面解决方案，提高您的工艺良率。
在半导体工厂中，微污染会带来严峻的挑战。康斐尔为半导体行业提供广泛的解决方案，包括灰尘预滤器、HEPA和ULPA过滤器以及AMC控制解决方案等，可降低洁净室颗粒和气态化学污染物的浓度：将灰尘降至ISO 1级水平 ，将AMC降至ppb级别以下。
气态化学污染物（AMC）对小尺寸的半导体制造有着特殊的挑战。酸性气体、碱性气体、有机物、难熔性有机物和掺杂性有机物之间产生不必要的化学反应，影响晶圆表面和工艺设备的光学器件，从而在芯片生产过程中产生不良品，降低机台设备的生产效率。
AMC在关键洁净室制造工艺中日益发挥着重要的作用。随着工艺要求越来越高，器件尺寸缩小，工艺控制面临巨大压力。晶圆可能要在工厂内存放整整一个月的时间，在最终产品出货之前经历数百个工艺制程。在该过程中任何微小的污染都会对晶圆厂的总良率产生巨大影响。
另一个挑战在于，随着大尺寸晶圆的普及，单个晶圆的成本增加，针对机台控制纳米级颗粒物和AMC污染的需求也相应增加。此外，在EUV机台和多重曝光DUV光刻机中使用的无缺陷掩模的成本上升，给厂务端的系统控制以及量测机台和掩膜版存储等微环境的污染控制系统带来了压力。
康斐尔解决方案在半导体制造环境中经过现场和实验室验证，包括光刻、蚀刻、扩散、金属化、薄膜、离子注入、量测机台以及光罩或晶圆存储区域。
康斐尔的灰尘预滤器系列产品保证新风空调箱的最低能耗，保护HEPA过滤器，防止硼释放。经过多年的发展，粘合剂技术和滤料化学性质不断完善；康斐尔HEPA和ULPA过滤器能够尽可能减少有机污染物的挥发（即低挥发性）。通过用于晶圆切割的排气处理系统以及用于一般排气备用系统的气体净化机组，保护您的环境免受工艺污染。
保护环境和人员免受工业过程中释放的危险或高浓度颗粒和分子污染物的影响，符合当地安全法规并降低废气过滤系统的运营成本。
再循环空气单元用于为设施提供清洁和回火的空气，作为洁净吊顶系统和风机过滤单元的补充或替代。 再循环空气需要过滤以保护人员，过程和产品
洁净室吊顶箱体旨在为洁净室设备、制造工艺和产品提供高水平保护，免受分子污染物（气相），纳米颗粒和微米颗粒物损害。 根据洁净室设计，洁净天花使用层流或非单向流送风设备。
洁净室或小型环境中的微电子工艺需要防止颗粒和分子气态污染物。 工艺包括光刻，涂布机开发，蚀刻，扩散，金属化，薄膜，离子注入，检查工具和光罩储料器。
空气处理单元为工业提供经过过滤处理的洁净空气，来保护设施系统的关键部件，用于产生房间正压并补偿排气。 补充的空气需要适当的过滤，以保护盘管、管道、人员、工艺和产品。
如果没有HEPA过滤器，我们将无法生产计算机、药品和许多其他当今世界必不可少的产品。但是这些高效微粒空气过滤器的历史是什么，它们是如何使用的，在哪里使用的?
并不是所有购买我们产品的人都是空气过滤方面的专家，他们也不需要成为专家。 康斐尔的目的是让每个人都有机会了解我们的洁净空气解决方案能为他们做些什么。
从制药、医院、微电子，到食品和饮料行业，各种不同的行业都需要HEPA过滤。了解HEPA过滤需求的变化趋势，HEPA过滤在过去几年的进展，以及如何识别和降低洁净空气需求的相关成本。
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