Semiconductor

In เซมิคอนดักเตอร์ไมโครคอนโทรลเลอร์อาจทำให้ก่อเกิดปัญหา แคมฟิลขอนำเสนอโซลูชั่นที่หลากหลาย – ตัวกรองอนุภาคล่วงหน้าตัวกรอง HEPA และ ULPAและโซลูชั่นการควบคุม AMC – เพื่อลดฝุ่นละอองในห้องคลีนรูมและความเข้มข้นของโมเลกุลสู่ระดับ ISO อนุภาคขนาดเล็กและ Sub-ppb สำหรับ AMC.

AMC กรองและควบคุมที่สำคัญยิ่งกว่าเดิมในการกรองคลีนรูม

การปนเปื้อนโมเลกุลในอากาศ (AMC) นำเสนอความท้าทายพิเศษในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ในขนาดเล็ก. ปฎิกิริยาทางเคมีที่ไม่พึงประสงค์ของกรด,สารอินทรีย์,วัสดุทนไฟและสารเจือปนอาจส่งผลกระทบต่อพื้นผิวและเลนส์อุปกรณ์กระบวนการผลิตเพื่อสร้างข้อบกพร่องในระหว่างการผลิตและลดประสิทธิภาพของเครื่องมือ

AMC กำลังมีความสำคัญต่อเนื่องในกระบวนการคลีนรูมที่สำคัญ เมื่อความต้องการมากขึ้นและขนาดของอุปกรณ์ลดลงการควบคุมกระบวนต่างอาจเกิดปัญหาอย่างมาก เวเฟอร์สามารถใช้เวลาทั้งเดือนภายในโรงงานโดยผ่านการกระบวนการหลายร้อยกระบวนการก่อนจะส่งไปยังผลิตภัณฑ์ ผลกระทบจากการปนเปื้อนเล็กน้อยในกระบวนการอาจมีผลกระทบร้ายแรง’s ผลผลิตโดยรวม.

ความท้าทายอีกประการหนึ่งอยู่ที่การทำให้มีขนาดใหญ่ขึ้นซึ่งจะทำให้ต้นทุนเพิ่มขึ้นและเพิ่มความจำเป็นในการป้องกันอนุภาคนาโนและ AMC ในระดับเครื่องมือ นอกจากนี้ค่าใช้จ่ายที่เพิ่มขึ้นที่ปราศจากข้อบกพร่องที่ใช้ใน EUV และการพิมพ์แบบ DUV หลายรูปแบบกำลังสร้างแรงกดดันให้กับระบบควบคุมการปนเปื้อนสำหรับสิ่งอำนวยความสะดวกเช่นเดียวกับสภาพแวดล้อมขนาดเล็ก เช่น อุปกรณ์ตรวจสอบ

ปกป้องอุปกรณ์ในกระบวนการและอนุภาคนาโนและการปนเปื้อนของโมเลกุลในอากาศs

โซลูชั่น แคมฟิล ให้การปกป้องภาคสนามและห้องปฎิบัติการในสภาพแวดล้อมการผลิตรวมถึงการพิมพ์ เครื่องมือตรวจสอบและพื้นที่จัดเก็บ

• เครื่องมือกรองอากาศ
• ตัวกรองอากาศครีนลูม
• แสกนเนอร์ระบบการกรอง

ประหยัดพลังงานและลดปัญหาการสิ้นเปลืองพลังงานสำหรับระบบสิ่งอำนวยความสะดวก

แคมฟิล’s แผ่นกรองระดับต้นช่วยในการช่วยพลังงานต่ำสุดในหน่วยจัดการกรองอากาศในขณะที่มีการปกป้องตัวกรอง HEPA จากการอุดตันและโบรอน. ตัวกรอง แคมฟิล HEPA และ ULPA ได้รับการออกแบบมาเพื่อปลดปล่อยสารปนเปื้อนอินทรีย์ในปริมาณต่ำสุด

• ตัวกรองสังเคราะห์โบรอน
• แผ่นกรองเริ่มต้นหลังงานต่ำ
• ตัวกรอง HEPA และ ULPA มีอัตราแพร่กระจายต่ำ
• เครื่องกำจัดฝุ่นและเครื่องแก๊ซเพื่อดูดอากาศ